PCB 曝光光源是 PCB 制造中光刻工艺的核心要素之一。在光刻过程中，曝光光源的特性直接影响到 PCB 线路图形的精度和质量。

目前常用的曝光光源包括紫外光（UV）光源、激光光源等。紫外光光源具有成本相对较低、技术成熟的优势，能够满足大多数 PCB 生产的基本需求。其波长范围一般在特定的紫外波段，能使光刻胶发生光化学反应，从而将设计好的电路图形转移到 PCB 板上。而激光光源则具有高能量密度、高方向性和高单色性等特点，能够实现更精细的线路图案曝光，尤其适用于高精度、高密度的 PCB 制造，如多层板、HDI 板等的生产。不过，激光光源的设备成本和维护成本相对较高。

在性能指标方面，光源的波长稳定性至关重要，因为波长的微小变化可能导致光刻胶曝光效果的差异，进而影响线路的精度和分辨率。光强均匀性也是关键参数，均匀的光强分布能够保证整个 PCB 板上的光刻胶得到一致的曝光量，避免出现局部曝光过度或不足的情况，从而确保线路图形的完整性和一致性。曝光光源的能量效率也不容忽视，高效的光源能在保证曝光质量的同时降低能耗，提高生产的经济性和可持续性，为 PCB 光刻工艺的发展和进步提供坚实的技术支撑，推动 PCB 产品向更高性能、更精密化方向发展。